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使用徕卡 EM RES102,使您的样品具备*高水平的灵活性,具有轻薄、清洁、抛光、切割的坡度和结构。独特的离子束研磨系统结合了在一个单工作台面单元上制备TEM、SEM和LM样品的特点。
各种样品架可以进行多元化应用。除了高能量的离子铣工艺,徕卡EM RES102也可适于采用低离子能量处理非常柔软的样本。
TEM,SEM和LM应用功能集于一体
SEM样品制备*大可达25mm样品直径
TEM样品制备获得的薄区大,有效提高了TEM样品制备效率
局域网功能方便远程操控
内置应用参数库
帮助文件帮助初学者以及对设备进行维护
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