微电子学和微电子机械系统(MEMS)-微电子与机械-徕卡显微镜-青岛中徕科技有限公司

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微电子学和微电子机械系统(MEMS)


微电子学和微电子机械系统(MEMS)

观察&分析& 辨别

在微电子学和微电子机械系统工业中,您需要观察、分析和辨别产品的特性。过程控制和失效分析中同样需要使用显微镜。设备物理结构的知识对了解过程至关重要。微电子产品的开发和微电子机械系统(MEMS)的设计依赖于高效的显微镜。运用不同的光学显微技术,可以检测产品的不同特征,如裂纹、孔洞或结点。在小型机械设备制造中,光学显微镜常常被用来评估模型及用于监测精密机械加工结果。

质量控制需要合适的工具

在样品制备方面,虽然可以制备样品截面切片后使用传统光学显微镜测量膜厚度等参数,但徕卡金相显微镜对样品制备的要求相对更具灵活性和适应性。它能够在相对简单的样品制备条件下,依然获取高质量的成像效果。对于一些难以进行复杂制备的样品,如某些特殊材质或形状不规则的样品,徕卡金相显微镜凭借其出色的光学性能和成像技术,可以最大程度减少因样品制备不完善而对检测结果产生的影响,保证检测的准确性和可靠性。

在成像质量上,徕卡金相显微镜具备卓越的光学系统。与共焦显微镜相比,它在观察样品表面及近表面微观结构时,能够提供更为清晰、细腻的图像。对于质量控制中一些对细节要求极高的检测项目,例如检测材料表面的微小裂纹、缺陷以及晶粒结构等,徕卡金相显微镜可以精确地呈现出这些微观特征,帮助检测人员更准确地判断样品的质量状况,及时发现潜在的质量问题。

在操作便捷性和成本效益方面,徕卡金相显微镜操作相对简便,检测人员经过短期培训即可熟练掌握其使用方法,这在一定程度上提高了检测效率。而且,徕卡金相显微镜的购置成本和维护成本相对一些高端的共焦显微镜而言更具优势,对于一些对检测精度要求较高,但预算有限的企业或检测机构来说,徕卡金相显微镜是一种性价比极高的选择,能够在满足质量控制检测需求的同时,有效控制成本。

在多领域适应性上,徕卡金相显微镜不仅适用于金属材料的检测,在非金属材料、半导体材料等众多领域也有广泛的应用。无论是检测焊接点的质量,还是分析蚀刻过程中基底的变化,亦或是测量膜厚度等,徕卡金相显微镜都能凭借其强大的功能和广泛的适用性,为不同领域的质量控制检测提供有力支持,成为质量控制检测工作中不可或缺的重要工具。

纳米级产品 – 清晰可辨

随着纳米级微电子器件的集成度持续攀升,对这类精密结构的检测变得愈发关键且富有挑战。在初步筛选与快速定位方面,徕卡金相显微镜操作简便、快速,能够迅速对样品进行初步观察。通过其良好的光学成像系统,检测人员可以快速筛选出存在明显缺陷或异常的样品,如器件表面的划痕、裂纹、污染以及元件的错位、缺失等宏观问题。在观察器件整体形貌与结构布局上,徕卡金相显微镜具有独特优势。它能够提供较大视野范围的图像,使检测人员可以清晰地观察到纳米级微电子器件的整体形貌和结构布局。这对于评估器件的设计合理性、生产工艺的一致性以及识别潜在的结构缺陷至关重要。例如,在检测集成电路芯片时,徕卡金相显微镜可以让检测人员直观地看到芯片上各个元件的分布情况、引脚的连接状态以及封装的质量等,有助于快速发现一些因整体结构问题而导致的性能故障,为后续的深入分析和改进提供重要依据。在与其他检测技术联用时,徕卡金相显微镜也展现出强大的兼容性。它可以与一些表面分析技术相结合,如能谱分析(EDS)等。在徕卡金相显微镜观察的基础上,对于疑似存在成分异常的区域,可以利用能谱分析进行快速定性或半定量分析,确定该区域的元素组成和含量。这种联用方式充分发挥了徕卡金相显微镜快速定位和能谱分析成分检测的优势,为全面、深入地了解纳米级微电子器件的性能和质量提供了有力支持。

推荐使用Leica DM8000/12000M大型晶圆显微镜

高产能 8" 检查及缺陷分析系统 - Leica DM8000 M

徕卡检查及缺陷分析系统DM8000M外观

徕卡 DM8000 M 提供了全新的光学设计,如理想的 宏观检查模式 或者倾斜紫外光 (OUV, 随检UV 选择) 不但提高了分辨能力,同时也增加了观察 8’’/200 毫米直径大样品 时的产量。
该机照明 基于最新的 LED 科技 ,一体化整合在显微镜机身上。 低热辐射效应和一体化内置技术确保了显微镜四周空间具有 理想化的空气环流。 LED的超长使用寿命和低能耗特性大大降低了用户 今后的使用成本.。
只要一指按键 您就可以切换放大倍率, 照明模式或相衬模式。

为您带来的优势

视野扩大四倍以上

宏观放大功能 使您可以比传统扫描物镜多看四倍以上的视野。


极限分辨率

徕卡检查及缺陷分析系统DM8000M超高分辨率

全新的倾斜紫外模式 (OUV) 在紫外光基础上结合了倾斜光设计理念,确保您可以从任何角度都得到可见物理光学的极限分辨率。


人机工程学设计

徕卡检查及缺陷分析系统DM8000M人体工学设计

非常适合 长时间在显微镜上工作, 直观操作适应任何程度的使用者。


LED 照明

徕卡检查及缺陷分析系统DM8000M照明LED

内置一体化的 LED照明 达到了完美的空气环流. 长寿命和低能耗的LED特性同样为用户节省了大量成本。

技术参数:
高级智能数字式正置材料显微镜,适合晶圆、电子元器件、金属、陶瓷、高分子材料、粉尘颗粒等样品观察分析,多种安全设计,保护晶圆,镜头及观察者
模块设计,可实现反射观察、透射观察配置
复消色差光路,整体支持25mm视野直径
可选配UV光源,提高观察分辨率至亚微米机构,UV由大功率LED产生,具有UV和OUV功能
8x8大样品台,可实现最大8”晶圆的直接观察
6孔位电动物镜转盘,配接32mm直径长工作距离工业物镜
内置电动或手动调焦系统
独有0.7x宏光物镜,具有宏光晶圆检查功能
可实现明场、暗场、干涉和斜照明观察方式
机身内置LED透、反射照明电源,智能光强变化控制照明方式
能自动记忆在不同物镜下和不同观察方式下最佳的光强、光阑大小及聚光镜的组合,自动恢复到位,操作简单快速
机座配触摸按钮,控制显微镜的操作
光强、光阑观察方式和聚光镜调节可由按键和计算机控制操作,并自动在不同倍数物镜下拍的照片中加相应倍数标尺
具有色温恒定系统,提高工作效率
可连接晶圆搬送机进行连续工作
可配接摄像头,数码相机进行图像采集、分析、测量
可配接荧光观察、高温热台、阴极发光仪、光度计
可配接自动扫描台进行多视场非金属夹杂物分析和颗粒粒度、清洁度分析